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揭西派瑞林真空覆膜工艺技术代加工处理的基本原理及特点

2023-07-06

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     揭西真空覆膜工艺技术基本原理:派瑞林真空镀膜工艺简单来说就是電子在电场的作用下加速到衬底的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和電子,電子飞向衬底。氩离子在电场作用下快速轰击靶,溅射出大量靶原子,中性靶原子(或分子)沉积在衬底上形成薄膜。然而在实际的辉光放电DC溅射系统中,很难维持1.3Pa以下的自持放电,因为在这种条件下没有足够的电离碰撞。

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    因此,揭西改善工作压力低于1.3 ~ 2.7 Pa的溅射系统的电离碰撞尤为重要。改进电离碰撞的方法或者由附加的电子源提供,而不是由阴极发射的二次电子提供,使用高频放电装置或磁场来提高现有電子的电离效率。事实上,真空镀膜中的二次電子在加速到衬底的过程中,被磁场的洛伦兹磁力束缚在目标表面附近的等离子体区域。这个区域的等离子体密度很高,二次電子在磁场的作用下绕靶面做圆周运动,電子的运动路径很长。

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据不同产品的特点,为了增加产品上的三防漆膜的附着力,有时还需要添加硫磺;为增加产品厚度,需对产品喷一次或几次并加硫。如果想要较厚的涂层,通过应用两层较薄的涂层来获得它,并且**层必须完全干燥后才允许应用第二层。

    在运动过程中,它们与氩原子碰撞,电离出大量氩离子轰击靶。经过多次碰撞,电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的约束,远离目标。揭西揭西真空镀膜是通过磁场的约束,延长電子的运动路径,改变電子的运动方向,提高工作气体的电离率,有效利用电子的能量。電子的目的地不仅是衬底,而且是真空室的内壁和目标源的阳极,因为通常衬底与真空室和阳极处于相同的电势。磁场和电场的相互作用使单个電子的轨迹呈现出三维螺旋形状,而不仅仅是围绕目标表面运动。